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世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备

发布时间:2021-03-18
文章来源:未知
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摘要:可加工22纳米芯片,2018年11月29日,由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目在成都通过验收,这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。 中国的这台光刻装备,并非是用来制造麒麟990,英特尔I7这类芯片的,而是用来制造光学器件,比如 ...

可加工22纳米芯片,2018年11月29日,由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目在成都通过验收,这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。
 
中国的这台光刻装备,并非是用来制造麒麟990,英特尔I7这类芯片的,而是用来制造光学器件,比如光栅等,虽然如此,技术非常厉害了。中国这个光刻机,严格来说和ASML不是一个东西。因为此项技术是打破光子衍射极限的原理性成就,理论上可以做到10nm、甚至3nm制程。
 
紫外超分辨光刻装备技术,与ASML所走的路是不同的。ASML的技术相当于走盘山公路,是慢慢在翻山,而中国离子激元聚光光刻蚀技术相当于是定向挖隧道直达ASML想到的目的地。表面等离子体激元聚焦技术,是一种突破了光刻衍射极限,的近场光学技术。
 
在光刻机研制方面,中国有两个选择:一种是沿用ASML的老路走一次,另外就是另辟蹊径通过新原理实现弯道超车。而这台SP光刻机的研制成功,让我们看到了弯道超车的可能性。事实上,这不是弯道超车,而是在别的人还在绕山路的时候,我们的科学家在尝试打通一条隧道,最终虽然还没有完全挖通,但曙光就在前方。

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